По теплотехнологическим признакам промышленные выпарные установки непрерывного действия разделяют на несколько групп. 1. По числу ступеней: одноступенчатые и многоступенчатые; при этом в одной ступени могут быть один, два^ и более параллельно включенных аппаратов выпарной установки (рис. 4.6,а ). 2. По давлению вторичного пара в последней ступени: а) выпарные установки с достаточно глубоким вакуумом в последней ступени (до 90%) и следующим за ней конденсатором для поддержания этого вакуума, соответствующего температуре охлаждающей воды. Такая схема встречается наиболее часто (рис. 4.6,а); в ней обеспечивается наибольшая разность температур между первичным греющим теплоносителем и вторичным паром последней ступени, поступающим в конденсатор. Однако при работе установки по такой схеме вся теплота пара последней ступени теряется с рхлаждающей водой конденсатора; б) выпарные установки с повышенным давлением в последней ступени (рис. 4.6,6). Такая схема может быть более экономичной, если вторичный пар последней ступени может быть использован в других теплоиспользующих установках (при бытовом потреблении теплоты, в отоплении, пищеблоках, банно-прачечном хозяйстве и т. д.); в) выпарные установки с ухудшенным вакуумом (рис. 4.6,в). По такой схеме установка может работать или на конденсатор, или на потребителя низкопотенциальной теплоты со сбросом излищков пара в конденсатор с ухудшенным вакуумом. 3. По подводу первичной теплоты: а) выпарные установки с одним источником первичной теплоты; б) выпарные установки с двумя источниками теплоты. Например, пар с большим давлением обогревает предвключенную ступень установки, называемую в такой схеме нуль-корпусом, а пар с меньшим давлением подается в следующую ступень, получивщую название первого.корпуса (рис. 4.6,г); в) выпарные установки с тепловыми насосами. 4. По технологии обработки раствора: а) одностадийные выпарные установки, в которых раствор проходрт при выпаривании последовательно все ступени и не отводится для других промежуточных операций обработки; б) двух- и более стадийные выпарные установки, в которых раствор после одной из промежуточных ступеней может быть направлен для дополнительной обработки (для осветления, центрифугирования и т. п.), а затем снова поступает из довыпаривание в следующую ступень (вторая стадия, рис. 4.6,(5). 5. По относительному движению греющего пара и выпариваемого раствора: а) прямоточные выпарные установки для растворов, обладающих высокой температурной депрессией (рис. 4.6,й—з); б) противрточные выпарные установки для растворов с быстро растущей вязкостью при повышении их концентрации (рис. 4.6,ж); в этих схемах между ступенями ставят насосы; в) выпарные установки с параллельным питанием корпусов раствором при склонности его к кристаллизации (рис. 4.6,з); г) выпарные установки с отпуском части вторичных паров (экстрапаров) посторонним потребителям (рис. 4.6,М); , д) выпарные установки со смешанным питанием корпусов для растворов с повышенной вязкость (рис. 4.6,с)
